主要用途MAJOR USAGES

該設備是用磁控濺射方法在塑料薄膜基材上鍍制太陽控制膜、低輻射膜、ITO透明導電膜等功能性膜層。主裳用于汽車、 火車、輪船等前擋及玻璃門窗的貼膜；建筑門窗及幕墻貼膜；防靜電和電磁貼膜；裝飾貼膜和包裝膜；太陽能暖房貼膜；電 加熱器膜；防霜霧透明膜；液晶顯示和場致發(fā)光顯示用透明電極膜等。

The magnetron sputtering device is used in the plastic film substrate coated solar control film, Low-E film, ITO transparent conductive film functional layers. Mainly used in cars, trains, ships, etc., and glass block windows and doors before the film; doors and windows and curtain wall film; anti-static and electromagnetic film; decorative film and packaging film; solar greenhouse film; electric heater film; anti-frost and fog transparent film; liquid crystal display and electroluminescent display with a transparent electrode film.

工作原理 WORKING PRINCIPLE

磁控濺射是一門多用途的薄膜沉積技術,運行壓力在3.5X10—3 mbar范圍內(nèi)和且使用氯氣作為反應氣體，采用輝光放電 或等離子體由一個專門設計的高負電壓供電產(chǎn)生氣體離子轟擊靶材的表面，材料在氯離子的影響下從靶材中被濺射出來。

Ar氣被用作反應氣伸,因為它屬惰性氣體,而且相対便宜。像02和N2這樣的氣伸也可以被充入并與濺射材料發(fā)生反應, 主裳用來鍍氧化物和氮化物。額外的技術如等離子預處理系統(tǒng)用于特定應用的脈沖直流濺射。

應用領域 APPLICATION AREA

主要技術參數(shù) MAIN TECHNICAL PARAMETERS