主要用途MAIN PURPOSE
?適用于O100mm以下,厚為0~5mm各種基片的曝光。
?由于采用了高均勻性的蠅眼曝光頭,非常理想的三點(diǎn)找平機(jī)構(gòu),穩(wěn)定可靠的真空壓緊曝光,使本機(jī)的曝光分辨率和曝光均 勻性都大為提咼。
?版不動(dòng),片動(dòng)的又寸準(zhǔn)方式,保證了導(dǎo)軌自重和受力方向的一致性,加之承片臺(tái)升降采用無(wú)間隙滾珠直進(jìn)導(dǎo)軌和三點(diǎn)式找平 機(jī)構(gòu)的成功應(yīng)用,使本機(jī)漂移特小,對(duì)準(zhǔn)精度高,對(duì)準(zhǔn)速度快。
?電控采用PLC控制,各主裳元件(如電磁閥等)采用迸口件,高穩(wěn)定可靠是本機(jī)的又一優(yōu)點(diǎn)。
主要技術(shù)參數(shù) MAIN TECHNICAL PARAMETERS
?適用于04", 03",基片,也適用于非規(guī)則基片,*小為5eex5ee。(用戶事先提出),基片厚度0~5mm均可。
?具有相對(duì)應(yīng)的版夾盤,口5” x5”、口4〃 x4" "、口25” x2.5”。
?套刻手柄:X, 丫粗調(diào)±3efti,細(xì)調(diào)±0.3ee。9粗調(diào)±15。,細(xì)調(diào)±3。
?對(duì)準(zhǔn)精度±0.5卩E
?掃描觀察±15ee
配置蠅眼曝光頭,光的不均勻性w ±4% (O100mm范圍內(nèi)),使用GCQ200Z型超高壓直流球形汞燈,風(fēng)冷、光強(qiáng)可調(diào), **出射光束為<Pl17mrno
?采用奴目分離視場(chǎng)顯微鏡,放大倍數(shù)50X?375X(也可采用奴CCD加液晶監(jiān)視器來(lái)顯示,放大倍數(shù)30X?189X或 67.5X ?420X)。
主要用途MAIN PURPOSE
?適用于O100mm以下,厚為0~5mm各種基片的曝光。
?由于采用了高均勻性的蠅眼曝光頭,非常理想的三點(diǎn)找平機(jī)構(gòu),穩(wěn)定可靠的真空壓緊曝光,使本機(jī)的曝光分辨率和曝光均 勻性都大為提咼。
?版不動(dòng),片動(dòng)的又寸準(zhǔn)方式,保證了導(dǎo)軌自重和受力方向的一致性,加之承片臺(tái)升降采用無(wú)間隙滾珠直進(jìn)導(dǎo)軌和三點(diǎn)式找平 機(jī)構(gòu)的成功應(yīng)用,使本機(jī)漂移特小,對(duì)準(zhǔn)精度高,對(duì)準(zhǔn)速度快。
?電控采用PLC控制,各主裳元件(如電磁閥等)采用迸口件,高穩(wěn)定可靠是本機(jī)的又一優(yōu)點(diǎn)。
主要技術(shù)參數(shù) MAIN TECHNICAL PARAMETERS
?適用于04", 03",基片,也適用于非規(guī)則基片,*小為5eex5ee。(用戶事先提出),基片厚度0~5mm均可。
?具有相對(duì)應(yīng)的版夾盤,口5” x5”、口4〃 x4" "、口25” x2.5”。
?套刻手柄:X, 丫粗調(diào)±3efti,細(xì)調(diào)±0.3ee。9粗調(diào)±15。,細(xì)調(diào)±3。
?對(duì)準(zhǔn)精度±0.5卩E
?掃描觀察±15ee
配置蠅眼曝光頭,光的不均勻性w ±4% (O100mm范圍內(nèi)),使用GCQ200Z型超高壓直流球形汞燈,風(fēng)冷、光強(qiáng)可調(diào), **出射光束為<Pl17mrno
?采用奴目分離視場(chǎng)顯微鏡,放大倍數(shù)50X?375X(也可采用奴CCD加液晶監(jiān)視器來(lái)顯示,放大倍數(shù)30X?189X或 67.5X ?420X)。